אפלייד מטיריאלס החלה לספק מכונות ייצור לרכיבי 3D
14 יולי, 2015
חברת אפלייד מטיריאלס הכריזה על שתי מערכות ייצור חדשות לשבבים תלת-מימדיים בגיאומטריה של 10 ננומטר. להערכתה, רכיבים תלת-מימדיים יתפסו את רוב הייצור עד 2018
אפלייד מטיריאלס הכריזה על שתי מערכות ייצור חדשות לשבבים תלת-מימדיים ב-10 ננומטר. להערכתה, רכיבים תלת-מימדיים יתפסו את רוב הייצור עד 2018
חברת אפלייד מטיריאלס (Applied Materials) נמצאת במהלכו של תהליך השקת מכונות ייצור חדשות עבור תהליכי ייצור תלת-מימדיים וייצור בגיאומטריות של 10 ננומטר ומטה. להערכת החברה, בתוף שנים ספורות עיקר היציור יהיה של שבבים תלת-מימדיים.
נשיא ומנכ"ל החברה, גרי דיקרסון, אמר שתעשיית הסמיקונדרקטורס "נמצאת במהלכה של התפנית הטכנולוגית הדרמטית ביותר בעשרות השנים האחרונות". לדבריו, לפני כשנתיים החלה אפלייד להיערך לשינויים בשוק, והגדילה את תקציבי המחקר והפיתוח כדי לבנות פורטפוליו חדש של מוצרים לתעשייה.
במסגרת הזאת הכריזה החברה השבוע על השקת שתי מכונות ייצור חדשות עבור רכיבים תלת-מימדיים הדורשים דיוק ברמה כמעט אטומית. בהן מערכת צריבה (Etching) חדשה לייצור מבנים מיקרואלקטרוניים בשם Centris Sym3, המגיעה להערכתה לרמת דיוק בקנה מידה של אטומים בודדים. המערכת החדשה מיועדת לייצור מבנים תלת-מימדיים של רכיבים לוגיים ורכיבי זיכרון צפופים. סגן נשיא ומנהל חטיבת ה-Etch באפלייד מטיריאלס, ד"ר ראמאן אשוטראמאן, אמר שהמערכת החדשה פותחה מחדש לחלוטין כבר מהשלבים הראשונים, ואיננה מהווה שידרוג של מערכות ייצור קיימות.
המערכת מיועדת להתמודד עם מספר בעיות המאפיינות את הייצור של מוליכים למחצה בגדלים הקטנים מ-10 ננומטר. במימדים כאלה, כל זיהום זעיר הנשאר על פרוסת הסיליקון במהלך היציור, עשוי לפגוע בתפקודו של הטרנזיסטור ולשבש את פעולת הרכיב. אפלייד תכננה מחדש תא צריבה גדול מהרגיל ובעל תנועת גאזים מואצת, המאפשר לסלק במהירות את החומרים הנפלטים מפרוסת הסיליקון בתהליך הצריבה (שהוא אחד מהתהליכים החשובים בשלב "פיסול" הטרנזיסטורים בשבב).
המערכת מיישמת את טכנולוגיית True Symmetry של אפלייד, אשר נועדה להבטיח אחידות גבוהה בכל שטח פרסת הסיליקון, לפרמטרים דוגמת צפיפות הגאז, טמפרטורה, ופולסי הפלסמה. להערכת החברה, התוצאה היא שהמכונה יכולה לשלוט במבנים ברמת דיוק של כמה שכבות אטומיות, ולהגיע לרמת אחידות של 0.5 ננומטר במימדים הקריטיים (CD) בשבב.
במקביל, החברה הכריזה על מערכת atomic layer deposition חדשה בשם Applied Olympia ALD. טכנולוגיית ALD משמשת להצמחת שכבות על-גבי הסיליקון, באמצעות חשיפת המשטח לסירוגין לגאזים שונים. למעשה, טכניקה זו מפצלת את טכניקת chemical vapor deposition המסורתית לשתי פעולות שונות, על-מנת להשיג יותר שליטה ודיוק בתהליך בניית השבות בתוך השבב.
השימוש בטכניקה זו מתגבר עם המעבר לייצור שבבים תלת-מימדיים וטרנזיסטורים תלת-מימדיים דוגמת FinFET וזיכרונות NAND תלת-מימדיים. המערכת החדשה מתוכננת לשימוש בעיקר אצל יצרני שבבים הנמצאים בתהליכי מעבר לייצור בגיאומטריות של 10 ננומטר.
אחד מהחידושים במערכת הוא תכנון מחודש של תאי החשיפה לגאזים, המאפשר להפריד בין שני הגאזים המעורבים בבניית השכבה הדקה (precursors) כדי לצמצם משמעותית את מהספר הזיהומים וההרכבים הלא רצויים הנוצרים בשבב בעקבות זיהום הדדי של שני התהליכים.
ברבעון השני צמחו מכירות החברה ב-4% בהשוואה לרבעון הראשון והסתכמו בכ-2.44 מיליארד דולר. אפלייד מייחסת את התוצאות לשינוי בתמהיל המוצרים בשנתיים האחרונות. דיקרסון אמר שאפלייד השלימה את הגדרת היעדים העיסקיים שלה עד לשנת 2018, מתוך הנחה שהשוק העולמי לציוד ייצור שבבים יגיע באותה שנה להיקף של 33.5 מיליארד דולר.
פורסם בקטגוריות: חדשות , ייצור וקבלנות משנה , סמיקונדקטורס
פורסם בתגיות: featured
