Applied Materials הכריזה על מהפיכה מטלורגית בייצור שבבים
14 מאי, 2014
מערכת Volta CVD Cobalt החדשה של Applied Materials מעניקה ציפוי ממתכת קובאלט למוליכים החשמליים בתוך השבב
"זהו השינוי המשמעותי ביותר בחומרי ייצור שבבים ב-15 השנים האחרונות"
חברת Applied Materials הכריזה על טכנולוגיה חדשה שלהערכתה מהווה את השינוי המהפכני והגדול ביותר מזה זמן רב בסוג החומרים המשמים לייצור המוליכים בתוך השבב (Interconnects) .
החברה חשפה את מערכת Volta CVD Cobalt, שהיא המכשיר היחיד המסוגל לצפות את מוליכי הנחושת בשבבים המיוצרים בתהליך של 28 ננומטר ומטה, באמצעות שכבות דקות של מתכת מסוג קובאלט (Cobalt).
החברה מעריכה שהוספת ציפוי קובאלט למוליכים משפר את הביצועים הכוללים של השבב בכמה סדרי גודל "ומהווה השינוי המשמעותי ביותר בחומרי ייצור שבבים ב-15 השנים האחרונות".
"איכות החיווט המקשר בין מיליארדי הטרנזיסטורים בתוך השבב הוא מרכיב קריטי", אמר ד"ר ראנדר טאקור, מנהל קבוצת ה-Silicon Systems בחברת אפלייד. "ככל שמימדי המוליכים מתכווצים, המוליכים רגישים יותר לתופעות כמו נתקים ואובדן חומר בהשפעת המטענים החשמליים (Electromigration).
לדבריו, "ציפוי מוליכי הנחושת בשכבת קובאלט דקיקה, מאפשרת להקטין את מימדי המוליכים אל מתחת ל-28 ננומטר". המערכת החדשה מייצרת שכבת הקובאלט בעובי של 20Å בלבד באמצעות תהליך בניית שכבות (Chemical Vapor Deposition) המקובל התעשיית השבבים.
המערכת מתאימה לביצוע שני שלבי ייצור נפרדים. הראשון הוא הנחת שכבת קובאלט ייעודית לצורך הכנת התשתית להנחת שכבת הנחושת. למעשה זו מעין שכבת דבק שעליה מונחת שכבת הנחושת. התהליך משפר את איכות ואחידות שכבות הנחושת שמהן מורכבים המוליכים החשמליים בתוך השבב.
התהליך השני הוא כיסוי הנחושת בשכבת קובאלט דקיקה. לאחר שני התהליכים, המוליכים מבודדים לחלוטין מסביבתם באמצעות כיסוי קובאלט. הדבר מונע פגיעה בתכונות החשמליות והדיאלקטריות שלהם. להערכת אפלייד מטיריאלס התהליך משפר פי 80 את האמינות הכוללת של השבב.
פורסם בקטגוריות: חדשות
פורסם בתגיות: featured