אפלייד ישראל הכריזה על מערכת 10 VeritySEM

5 מרץ, 2023

מבוססת על גישה חדשה שפותחה בארץ, אשר מאפשרת לבדוק בו-זמנית את כל השכבות בשבב תלת-מימדי מתקדם. משפרת בכ-30% את המהירות והרזולוציה של ההדמייה

חברת אפלייד מטיריאלס העולמית (Applied Materials) הכריזה על פריצת דרך טכנולוגית בתחום ייצור השבבים, אשר פותחה ומיוצרת בחטיבת Process Diagnostics and  Control – PDC, שהיא החברה הישראלית של אפלייד מטיריאלס. הפתרון החדש שולב במערכת המטרולוגיה מבוססת eBeam מדגם 10 VeritySEM אשר מיוצרת ברחובות, במטרה למדוד ולבדוק ברמת דיוק גבוהה את המימדים הקריטיים (critical dimensions) במבנה של שבבים מתקדמים. הבדיקות האלה נעשות במהלך ייצור השבב, על מנת לאתר פגמים מיד עם הופעתם ולבצע תיקונים שימנעו את פסילת האצווה.

הגישה החדשה קיבלה באפלייד את הכינוי 3D Patterning Control. היא מבוססת על שימוש במיקרוסקופ eBeam ייחודי שפותח בישראל, אשר מבצע סריקה של השבב באמצעות אלומות אלקטרונים שונות בעוצמות שונות: אלומה חזקה מאפשרת מדידה מהירה בעומק של כמה מאות ננומטרים ואלומות בעוצמות משתנות אשר מותאמות לתכונות השבב הייחודי, ומשודרות בעוצמות המאפשרות לבצע מדידה של מבנים וחומרים הרגישים לקרינת אלקטרונים, מבלי להרוס אותם.

באפריל 2022 קיימה אפלייד מטיריאלס יום הדרכה לתעשיית השבבים, ובמהלכו סיפר מנהל קבוצת הדיאגנוסטיקה ובקרת התהליכים בחברה, עופר אדן, שהטכניקה הזאת מיועדת להתמודד עם בעיה חדשה שנוצרה בעקבות המעבר לייצור מבנים תלת מימדיים מורכבים, דוגמת טרניזסטורי GAA. עקב המימדים האלה יש צורך להשתמש בקרינת Extreme UV בעלת אורך גל קצר מאוד, אולם שכבות ה-photoresist בתהליך EUV הן כל כך דקות, שאפילו עוצמת האנרגיה של המיקרוסקופ האלקטרוני המשמש למדידת התהליך, יכולה לעוות את התבניות.

אדן: “מערכת VeritySEM עבור תהליכי EUV כוללת טכנולוגיה בעלת אנרגיה נמוכה אשר מקטינה למינימום את ההפרעה ל-photoresist, אולם משפרת את הרזולוציה של התמונה המתקבלת. מספר לקוחות כבר משתמשים במערכת הזאת כדי להבטיח עמידה במימדים הקריטיים (CD) בתהליכי EUV ובאחידות התבנית לפני המעבר לשלב הצריבה”.

Share via Whatsapp

פורסם בקטגוריות: חדשות , סמיקונדקטורס , תעשייה ישראלית

פורסם בתגיות: אפלייד מטיריאלס , מטרולוגיה , שבבים