אפלייד מצפה להכפיל פי 4 את מכירות CFE הישראליות
19 פברואר, 2024
טכנולוגיית Cold Field Emission שפותחה בישראל נחשפה לראשונה בסוף 2022, ומאפשרת להפעיל מיקרוסקופ אלקטרונים בטמפרטורת החדר ולא בטמפרטורה המקובלת של כ-1,500°C
בתמונה למעלה: קמפוס אפלייד מטיריאלס ברחובות
מנכ"ל חברת אפלייד מטיריאלס העולמית (Applied Materials), גארי דיקרסון, העריך שהמכירות של מערכות Cold Field Emission – CFE שפותחו בישראל יוכפלו פי ארבעה במהלך שנת 2024. "התקדמויות משמעותיות ופריצות דרך ב-Foundry Logic ו-DRAM מניעות צורך במטרולוגיה ותהליכי בקרה איכותיים יותר בתהליך הייצור. טכנולוגיית CFE למערכות e-beam שפיתחנו, מייצרת תמונה דו-מימדית ותלת-מימדית במהירות גבוהה עד פי 10 ממערכות אחרות. אנחנו מצפים שההכנסות ממערכות ה-CFE שלנו יגדלו פי ארבעה במהלך 2024, ויהוו כ-50% מסך המכירות של מערכות e-beam".
הדברים נאמרו במהלך שיחת ועידה השבוע לאחר שהחברה פירסמה את התוצאות העסקיות לרבעון הראשון שלה, שהסתיים ב-31 בינואר 2024. היקף המכירות ברבעון הסתכם בכ-6.71 מיליארד דולר, כמו ברבעון המקביל אשתקד. תחזית המכירות של הרבעון השני היא כ-6.50 מיליארד דולר. בעקבות פרסום התוצאות עלתה מניית אפלייד בנסד"ק בכ-11% והיא נסחרת כיום לפי שווי שוק של כ-166 מיליארד דולר.
אפלייד מטיריאלס פועלת בישראל תחת חטיבה עסקית עצמאית המתמחה באבחון ובקרת תהליכים בשם PDC – Process and Diagnostic Control. היא מנוהלת על ידי רפי בן עמי, עוסקת בפיתוח וייצור מערכות לתחום בקרת ייצור שבבים. זהו מרכז המו"פ הגדול ביותר של החברה מחוץ לארה"ב וכולל מעבדות פיתוח, אולמות ייצור וחדרים נקיים הנמצאים היום בתהליכי הרחבה. כיום אפלייד מעסיקה כ– 2,350 עובדים בישראל ומציעה כ-35 משרות פתוחות במגוון תפקידים טכנולוגיים.
טכנולוגיית Cold Field Emission נחשפה לראשונה בסוף 2022. היא מאפשרת להפעיל מיקרוסקופ אלקטרונים בטמפרטורת החדר ולא בטמפרטורה המקובלת של כ-1,500°C, ועל-ידי כך ניתן לאתר ולזהות פגמים בשבב בגודל של פחות מ-1 ננומטר. הטכנולוגיה שולבה במערכת PrimeVision 10 לאיתור פגמים ובמערכת SEMVision G10 לאיפיון הפגמים, המיוצרות בישראל.
טכנולוגיית eBeam (מיקרוסקופ אלקטרוני) משמשת לזיהוי ואיפיון פגמים שמפאת גודלם אינם ניתנים לזיהוי על-ידי מערכות אופטיות. עד היום התעשייה התבססה על מערכות המבוססות עקרון Thermal Field Emission -TFE אשר פועלות בטמפרטורה גבוהה של כ-1,500°C, אשר מגבילה את הרזולוציה של התמונה המתקבלת. הפיתוח התאפשר בזכות שתי פריצות-דרך שבוצעו בישראל: הראשונה היא שימוש בחומרים ייחודיים אשר מפחיתים את כמות המזהמים ועבודה בתנאי ואקום עמוק (1×10-11 מיליבר), שהוא גדול בשניים-שלושה סדרי גודל מהוואקום הקיים במערכות TFE וקרוב לרמת הוואקום הקיים בחלל החיצון.
פריצת הדרך השנייה הינה תהליך אוטומטי לניקוי עצמי: גם בתנאי ואקום קיצוניים במיוחד עשויות להיווצר כמויות זעירות של שאריות גז שיפגעו בתפקוד המערכת. אפילו אם אטום בודד נצמד למקור ממנו נפלטים האלקטרונים, הוא עשוי לחסום חלקית את פליטתם, ולפגוע ביציבות פעולת המערכת. המהנדסים מרחובות פיתחו תהליך ניקוי עצמי מחזורי המסיר מזהמים, ומאפשר ביצועים יציבים לאורך זמן.
פורסם בקטגוריות: חדשות
