בטכניון מפתחים תחליף לסיליקון עבור ייצור שבבים חדשים

בתמונה למעלה מימין לשמאל: לישי שהם, פרופ' ליאור קורנבלום וד"ר מריה בסקין במעבדה. צילום : ניצן זוהר, דוברות הטכניון

חוקרים בפקולטה להנדסת חשמל ומחשבים בטכניון השיגו שליטה על חומר חדש שעשוי להערכתם להחליף בעתיד את הסיליקון כחומר היסוד בייצור רכיבים אלקטרוניים. מטרת המחקר היא למצוא חומרים המאפשרים להמשיך ולמזער את הרכיבים האלקטרוניים. במאמר שפורסם בכתב העת המדעי Advanced Functional Materials, הם הציג צוות חוקרים בראשות פרופ' ליאור קורנבלום, יכולת שליטה במבנה ובתכונות החשמליות של גביש מסוג Perovskite, אשר נוצר באמצעות תחמוצת של סטרונציום ונדייט (Strontium Vanadium Oxide – SrVO3).

פרופ' קורנבלום, הסביר: "בעקבות המזעור מיוצרים כיום טרנזיסטורים בגודל של כמה עשרות אטומים. במימדים אלו קשה להמשיך במזעור מבלי לפגוע בביצועי הטרנזיסטורים והשבבים המכילים אותם, מכיוון שבסדרי גודל ננומטריים מתנהגים הטרנזיסטורים בדרכים חדשות. למשל נוצרת בעיה קשה של דליפת זרם חשמלי כאשר הטרנזיסטור (המתג) אמור להיות כבוי. דליפה כזו לא רק פוגעת בביצועי הטרנזיסטור, אלא גם מובילה לבזבוז חשמל. בטלפון מודרני המכיל מיליארדי טרנזיסטורים, דליפות זעירות אלה יצטברו לאובדן אנרגיה משמעותי, והתוצאה היא התרוקנות מהירה של הסוללה והתחממות המכשיר. בסדר גודל של חוות שרתים, המשמעות היא צריכת אנרגיה עצומה ושחרור חום רב לאטמוספירה".

לכן קבוצת המחקר של פרופ' קורנבלום בוחנת תחמוצות שונות אשר יכולות להחליף את הסיליקון, ומתמקדים כעת ב-SrVO3 מכיוון שהיא מסוגלת לשנות את תכונותיה ממוליך חשמלי למבודד, ולהיפך. תכונה שניתן לנצל כדי לייצר מתגים מהירים. הדבר נעשה באמצעות שליטה מדויקת בחומר ובמבנהו האטומי. במאמר שהם פירסמו (הקליקו כאן) הציגו החוקרים שליטה בתכונות החשמליות של החומר באמצעות שליטה מדויקת במרחק שבין האטומים בגביש. מנהלת המעבדה, ד"ר מריה בסקין עושה זאת באמצעות מערכת ייחודית לגידול תחמוצות, באמצעות "הנחת" האטומים במעבדה, שכבה על-גבי שכבה. התהליך מעניק שליטה על המרחקים בין האטומים בכל שכבה ברמת דיוק של פיקומטר (אלפית ננומטר). לצורך השוואה, המרחק בין שני אטומים בסיליקון הוא כרבע ננומטר, שהם 250 פיקומטר.

המבנה האטומי של סטרונציום וונדייט - המחשה של המבנה האטומי של החומר תחת מאמצי מתיחה (ימין) ולחיצה (שמאל)
המבנה האטומי של סטרונציום וונדייט – המחשה של המבנה האטומי של החומר תחת מאמצי מתיחה (ימין) ולחיצה (שמאל)

הדוקטורנטית ליהי שהם חוקרת את תכונות החומר ומייצרת ממנו טרנזיסטור. במחקר הנוכחי היא הובילה צוות של עוד 12 חוקרים מ-8 מוסדות מחקר וחברות בשוויץ, יפן, צרפת וארה"ב. הצוות הראה שעל-ידי מתיחת החומר ברמה האטומית אפשר להאריך את הקשרים הכימיים שלו. כך למשל, מתיחה של פחות מ-2% באורך הקשר הכימי מצמצמת את הנטייה של האלקטרונים לדלג מאטום לאטום. שינויים זעירים אלה מאפשרים לשלוט במעבר בין מצב מוליך למצב מבודד בחומר זה. שהם: "בדקנו את השינויים במאיץ חלקיקים בשווייץ. אלה בדיוק הכלים שאנחנו צריכים לפתח כדי ליצור את הטרנזיסטורים העתידיים. כיום אני מיישמת את תוצאות המחקר על חומרים דומים אחרים, ומהם אני מפתחת טרנזיסטור מסוג חדש".

המחקר נערך במרכז שרה ומשה זיסאפל לננואלקטרוניקה במימון של הקרן הלאומית למדע, והוא נתמך על ידי מכון ראסל ברי לננוטכנולוגיה ותוכנית האנרגיה ע"ש ננסי וסטיבן גרנד.

למאמר בAdvanced Functional Materials לחצו כאן

יבמ וסמסונג פיתחו טרנזיסטור אנכי מסוג חדש

בתמנה למעלה: המבנה של טרנזיסטור FinFET (מימין) בהשוואה למבנה של טרנזיסטור VTFET

החברות יבמ וסמסונג פיתחו טרנזיסטור מסוג חדש בשם Vertical Transport Field Effect Transistor – VTFET שלהערכתן יכול להמשיך בתהליך המיזעור של שבבים, ולספק ביצועים טובים יותר מאשר טרנזיסטורי FinFET מהדור הנוכחי, אשר משמשים כ"סוס העבודה" העיקרי של התעשייה בייצור רכיבים מתקדמים. הטכנולוגיה פותחה במעבדת המחקר של יבמ באולבני, ניו יורק, שם ממוקמת מחלקת הננו-טק של החברה ושם היא משתפת פעולה עם סמסונג בפיתוח טכנולוגיות שבבים חדשות מאז שנת 2011.

השינוי העיקרי במבנה הטרנזיסטור הוא המעבר מייצור אופקי לייצור אנכי. טרנזיסטור FinFET הוא בעיקרו טרנזיסטור אופקי שבו הצומת מקיף את השער משלושה צדדים כדי להשיג יכולת העברה מהירה של מטענים חשמליים רבים. טרנזיסטור VTFET בנוי כולו במתכונת אנכית, שבה המטענים החשמליים נעים לאורך הציר האנכי ולא לאורך הציר האופקי. הדבר מאפשר להקטין את מימדי מחיצות ההפרדה בין טרנזיסטורים סמוכים, ועל ידי כך לייצר יותר טרנזיסטורים ליחידת שטח בהשוואה לטכנולוגיית FinFET.

בנוסף, החברות מסרו שהמבנה הזה מאפשר להגדיל את מרכיבי ה-Source וה-Drain של הטרנזיסטור בהתאם לצורך ולפשט את מערך המוליכים החשמליים המקשרים בין הטרנזיסטורים בשבב. התוצאה שהיא שניתן יהיה להמשיך ולמזער את הטרנזיסטורים, להגדיל את צפיפות הטרנזיסטורים בשבב, ולקבל ביצועים משופרים. להערכת שתי החברות, טרנזיסטור VTFET מספק ביצועים כפולים או צריכת הספק נמוכה בכ-85% בהשוואה לטרנזיסטור FinFET בגודל דומה.

טרנזיסטורי VTFET במערך צפוף בתוך השבב (בכחול: מחיצות ההפרדה)
טרנזיסטורי VTFET במערך צפוף בתוך השבב (בכחול: מחיצות ההפרדה)

חברת יבמ מסרה שהיא ייצרה בהצלחה את השבבים הראשונים ומסרה אותם להערכה אצל לקוחות פוטנציאליים. ההכרזה החדשה מגיעה חצי שנה בלבד לאחר שיבמ, סמסונג וגלובלפאונדריז הכריזו על טכנולוגיית Nanosheets לייצור טרנזיסטורים ברוחב צומת של 2 ננומטר, אשר יתחרו גם הם בטרנזיסטורי FinFET, המשמשים כיום כטכנולוגיה המרכזית לייצור שבבים בתהליכים מתקדמים כמו 14, 10 ו-7 ננומטר. למעשה, טרנזיסטורי VTFET הם שיפור של טכנולוגיית Nanosheets. להערכת יבמ, הטכנולוגיה החדשה תאפשר לייצר שבבי ענק שיוכלו להגיע לגודל של עד 100 מיליארד טרנזיסטורים בשבב.

חתך רוחב של טרנזיסטורי Nanosheets
חתך רוחב של טרנזיסטורי Nanosheets

טרנזיסטור הדור הבא של אינטל: RibbonFET

בתמונה למעלה: טרנזיסטור RibbonFET החדש (מימין) לצד טרנזיסטור FinFET של אינטל

חברת אינטל הכריזה על טרנזיסטור מסוג חדש בשם RibbonFET אשר צפוי להיכנס לייצור סדרתי בשנת 2024 ויחליף בהדרגה את טרנזיסטורי FinFET המשמשים כיום כסוס העבודה המרכזי של החברה. מדובר בהכרזה החשובה ביותר של אינטל מאז ההכרזה על טרנזיסטורי Tri-Gate בשנת 2011 שמהם התפתח טרנזיסטור ה-FinFET של החברה. המהלך ההוא הכניס אותה אל עולם הטרנזיסטורים התלת-מימדיים, שבהם הוגדל שטח הצומת שבו נעים המטענים החשמליים באמצעות שלוש פאות (במקום פאה אחת בטרנזיסטור שטוח) ובאמצעות ריבוי שטחי מגע (סנפירים).

בטכנולוגיית RibbonFET החדשה, אינטל ביצעה הגדלה נוספת של שטח הצומת באמצעות בניית "צומת צפה" שבה השער המבקר את פעולת הטרנזיסטור של הטרנזיסטור מקיף את הצומת מכל הכיוונים. באמצעות המבנה הזה ניתן להעביר גם מטענים קטנים מאוד במהירות גדולה בהרבה. ביסודו הרעיון אינו חדש, וכבר בסוף שנות ה-80 הדגימה טושיבה יכולת ייצור של טרנזיסטור בעל צומת צפה, שקיבל את הכינוי Gate-All-Around – GAA. אולם רק כעת הטכנולוגיה מתחילה להגיע לשלבים מעשיים. בשנת 2020 הודיעה חברת סמסונג שהיא מפתחת טכנולוגיית GAA משל עצמה בשם Multi-Bridge Channel FET – MBCFET, ושהיא תשמש לייצור שבבים בתהליכי ה-3 ננומטר העתידיים שלה.

ביחד עם הטרנזיסטור החדש, אינטל תתחיל ב-2024 לייצר שבבים במבנה חדש בשם PowerVia. כיום מיוצרים הטרנזיסטורים בשכבה התחתונה של השבב כאשר מעליה נבנה מארג של מוליכים חשמליים האחראים לאספקת הכוח לטרנזיסטורים ולניתוב האותות. בטכנולוגיית PowerVia החדשה, אינטל מפרידה בין שני סוגי המוליכים ומשנה את מיקומם. בשיטה החדשה, שכבת הטרנזיסטורים נמצאת במרכז השבב, כאשר מארג אספקת הכוח נמצא בחלקו התחתון של השבב, קרוב אל המעגל המודפס.

מארג המוליכים האחראים על ניתוב האותות בין הטרנזיסטורים נמצא בחלקו העליון של השבב, ומתקיימת הפרדה מלאה בין האותות לבין אספקת הכוח. להערכת אינטל, בטכניקה הזאת ניתן לתכנן את ניתוב האותות (Routing) בצורה אופטימלית ובכך לשפר דרמטית את מהירות העבודה של השבב ולהפחית את צריכת האנרגיה שלו. מדובר בתהליך קשה מאוד לביצוע, הדורש לבצע הפיכה של פרוסת הסיליקון (Flip Chip) במהלך הייצור של שבבים גדולים וצפופים מאוד.

שתי הטכנולוגיות החדשות יהיו הבסיס לתהליך הייצור שקיבל את הכינוי Intel 20A, אשר צפוי להגיע לייצור ב-2024. אינטל דיווחה שהיא חתמה על הסכם עם חברת קואלקום, שלפיו קואלקום תהיה החברה הראשונה שאינטל תספק לה שירותי ייצור שבבים המבוססים על תהליך Intel 20A (במפעל באריזונה הנמצא כעת בשלבי הקמה). הסכם הייצור הזה נעשה במסגרת אסטרטגיית IDM 2.0 שעליה הכריז לאחרונה המנכ"ל פט גלסינגר, שלפיה אינטל תספק שירותי ייצור לחברות אחרות (Foundy).

אינטל הכריזה על טרנזיסטור מסוג חדש: SuperFin

בתמונה למעלה: הדמייה תלת-מימדית של טרנזיסטור SuperFin החדש

חברת אינטל הוציאה מהשרוול קלף חדש ומפתיע שנועד להחזיר אותה אל ההובלה בתחום תהליכי הייצור, לאחר שסמסונג ו-TSMC הקדימו אותה במירוץ לייצור שבבים בגיאומטריה של 7 ננומטר. במסגרת ארוע הטכנולוגיה השנתי, Architecture Day של החברה, שהתקיים ביום ה' האחרון, היא הכריזה על תהליך ייצור של טרנזיסטור תלת-מימדי מסוג חדש שקיבל את השם SuperFin.

אינטל מסרה שזהו השיפור הגדול ביותר בתוך אותו דור טכנולוגי שנעשה באינטל אי-פעם. הדור הראשון של הטרנזיסטורים החדשים נקרא 10nm SuperFin, וישמש לייצור המעבד החדש של החברה, Tiger Lake, שייצא לשוק בסוף השנה, לקראת עונת החגים. לטענת אינטל, טכנולוגיית 10nm SuperFin מקבילה לתהליך ייצור של 7 ננומטר במונחי צפיפות וביצועים.

אינטל נפרדת ממדד הננומטר

מכיוון שיש לדעתה בלבול גדול סביב המושג "ננומטר" והתהליכים החדשים שהחברות מציעות, היא החליטה להתנתק ממנו והמוצרים הבאים שלה בטכנולוגיית 10 ננומטר לא יכונו בשם המציין את רוחב הצומת. הם ייקראו SuperFin Technology, ובהמשך Enhanced SuperFin. אינטל צופה שאספקת מעבדי מחשבים בטכנולוגיית 7 ננומטר שלה תהיה בסוף 2022 או בתחילת 2023.

טכנולוגיית SuperFin מהווה שיפור של הטרנזיסטורים התלת-מימדיים המוכרים מסוג FineFET, שאינטל ייצרה אותם לראשונה בשנת 2012. בתהליך החדש היא ביצעה שינויים מבניים והוסיפה חומרים חדשים המשפרים את הביצועים של הטרנזיסטור ואת הביצועים של המעגל המוכלל כולו, הבנוי ממספר רב של טרנזיסטורי SuperFin.

ראג'ה קודורי. התמקדות במכלול כולו, ולא רק ברוחב הצומת של הטרנזיסטור
ראג'ה קודורי. התמקדות במכלול כולו, ולא רק ברוחב הצומת של הטרנזיסטור

החידושים המרכזיים: שיפור תהליך הבנייה של שכבות גבישיות על מגעי ה-Source וה-Drain של הטרנזיסטור מחזק את המבנה ומקטין את התנגדות הצומת למעבר זרם. בנוסף, היא ביצעה שינוי במבנה הצומת המאפשר להעביר כמות גדולה יותר של מטענים ובמהירות גדולה יותר מאשר בטרנזיסטורי FineFET. החידוש הטכנולוגי קשור גם לשבב כולו ולא רק לטרנזיסטור הבודד: תהליך ייצור המאפשר להקטין את עובי שכבות ההפרדה בתוך השבב מפחית ב-30% את ההתנגדות החשמלית של מוליכי המתכת (Via) המקשרים בין הטרנזיסטורים לבין שכבת ההולכה והקישוריות.

הטכנולוגיה החדשה כוללת שיטה חדשה לייצור קבלי MIM – Metal-Insualtor-Metal. לייצור קבלים במהלך בניית השבב יש תפקיד חשוב. טרנזיסטורים מסוג MOS למיניהם כוללים קבל בתוך המבנה הפנימי שלהם, והמעגלים הלוגיים כוללים קבלים נוספים מחוץ לטרנזיסטור. אלא שהקיבוליות שלהם (Capacitance) היא נמוכה מאוד, ולכן הביצועים מוגבלים. לכן הם גם גוזלים שטח גדול מאוד מהמעגל השלם. טכנולוגיית SuperFin כוללת שיטת ייצור קבלי MIM המבוססת על בניית מספר רב של שכבות מוליך-מבודד בעובי של אנגסטרמים בודדים, המגדילה פי חמישה את הקיבוליות שלהם.

מארזים תלת-מימדיים צפופים

ביחד עם טכנולוגיית SuperFin, היא הכריזה על אסטרטגיה אגרסיבית בתחום המארזים המתקדמים. אינטל לומדת את התחום הזה כמעט 20 שנה, מאמץ שהביא לפיתוח טכנולוגיית EMIB המאפשרת לחבר מספר אריחי סיליקון בתוך מארז אחד, בצפיפות גבוהה מאוד. בסוף 2019 היא הוציאה לשוק רכיבי FPGA ממשפחת Agilex המבוססים על הטכנולוגיה החדשה. בשנת 2019 היא חשפה את טכנולוגיית Foveros לבניית רכיבים במתכונת תלת-מימדית: היא מבוססת על שכבת בסיס לוגית ראשונית, שעליה ניתן להתקין שכבות לוגיות נוספות, למשל רכיבי CPU או רכיבי FPGA, ועליהן שכבות נוספות כמו מעגל אנלוגי או זכרונות.

האריחים מקושרים באמצעות מגעים כדוריים זעירים (Micro-bumps) המקשרים את המודולים החשמליים של פיסות הסיליקון. לפני כחודשיים הטכנולוגיה הזאת נכנסה לראשונה אל השוק, כאשר אינטל הכריזה על מעבדי Intel Core i5 ו-i3 המבוססים על ליבת 10nm Sunny Cove שפותחה באינטל ישראל. הם מופיעים במארז תלת-מימדי הכולל מספר שבבים המסודרים בתצורת מגדל (Stack), המאפשרת לצמצם ביותר מ-50% את השטח שהמעבד תופס על-גבי הלוח המודפס (PCB).

לדברי הארכיטקט הראשי של החברה, ראג'ה קודורי, אינטל נמצאת רק בתחילת המסע לשיפור המארז, והיעד שלה הוא לפתח מארז צפוף במיוחד הכולל מגעים כדוריים זעירים המצויים במרחק של פחות מ-10 מיקרו-מטר אחד מהשני, ומגיעים לצפיפות של עד 10,000 מגעים במ"מ מרובע. בכך אינטל מחוייבת לאסטרטגיה של קודורי שנחשפה בשנת 2018, שלפיה מנוע הצמיחה של תעשיית השבבים אינו מצוי ברוחב הצומת של הטרנזיסטור, אלא בשילוב של ביצועים, אינטגרציה וארכיטקטורה.

השפעת הטכנולוגיה על המודל העסקי של אינטל

ראוי לציין שאסטרטגיית המארזים אינה רק מענה טכנולוגי למירוץ אחר גיאומטריות קטנות יותר שאותו אינטל אינה מובילה, אלא שהיא גם מספקת בסיס לרעיון עסקי חדש: מארזים מרובי-שבבים מאפשרים לאינטל לשלב בתוך המוצרים שלה פיסות סיליקון וטכנולוגיות שהובאו ממקורות מחוץ, ואפילו כאלה שיוצרו על-ידי חברות אחרות.

בכך ניתן להאיץ את קצב ההוצאה לשוק של מוצרים חדשים, לבנות אקוסיסטמס מסוג חדש סביב מוצריה – ולהתמקד ביכולות הליבה של החברה – בלא צורך לספק את הסביבה הכוללת של השבב. גם הרעיון הזה נבדק כעת באמצעות הניסוי של Agilex FPGA.

האזינו לשתיים מתוכניות הפודקאסט שלנו שבהן התארחו אנשים מאינטל:

"להמציא את האקסלרטור מחדש" עם צחי וייספלד, מנהל האקסלקטור Intel Ignite (עלה בחודש אוגוסט 2020)

"בינה מלאכותית באינטל" עם ד"ר אמתי ערמון (עלה בחודש מרץ 2020)

עקבו אחר כל תוכניותינו ב-Spotify

וגם ב-Apple Podcasts