חברת אינטל דיווחה על התקנת מכונת הליתוגרפיה המתקדמת ביותר בעולם, אשר פותחה במשך מספר שנים על-ידי חברת ASML ההולנדית בשיתוף עם מהנדסי אינטל. המכונה הותקנה במפעל ייצור השבבים באורגון ארה"ב, ונחשבת למכונת הליתוגרפיה הראשונה בעולם בתחום של אור אולטרא סגול קיצוני (EUV), המבוססת על טכנולוגיית High Numerical Aperture (High NA). כיום המערכת מאפשרת לייצר שבבים הכוללים טרנזיסטורים בגודל צומת של 7, 5 ו-3 ננומטר. להערכת חברת ASML, עד לשנת 2025-2026 ניתן יהיה לייצר באמצעותה טרנזיסטורים ברוחב צומת של 2 ננומטר.
אינטל רמזה על היעד הזה בהודעתה, כאשר היא דיווחה שהמכונה תאפשר לה להשלים את תהליך הייצור 18A, אשר צפוי להיכנס לייצור ראשוני ב-2025. הקוד מתייחס לגודל של 18 אנגסטרם, שהוא 1.8 ננומטר. ליתוגרפיית EUV מבוססת על שימוש בקרן לייזר באורך גל של 13.5 מיקרון, בהשוואה לאורך גל של 193 מיקרון המשמש במערכות אור אולטרא סגול עמוק (DUV) המתקדמות ביותר. טכנולוגיית EUV הופיעה לראשונה בשנת 2010 וממלאת תפקיד מרכזי בפיתוח טכנולוגיות ייצור מתקדמות (פחות מ-10 ננומטר). טכנולוגיית High NA מאפשרת להקטין פי 2.9 את מימדי הטרנזיסטור בהשוואה לטכנולוגיית EUV.
מדד Numerical Aperture מבטא את היכולת למקד קרן אור. במערכת החדשה, הצליחה ASML להגיע למדד NA של 0.55, אשר דרש שימוש באופטיקה מסוג חדש לגמרי. אינטל התקינה את מערכת TWINSCAN EXE: 5000, אשר כוללת שימוש בקרן לייזר אשר מחממת פלסמה לטמפרטורה של 20,000°C (פי ארבעה מהטמפרטורה של פני השמש). מדובר במכונה גדולה מאוד, השוקלת 126 טון. אינטל מסרה שהיא השלימה את האינטגרציה של המערכת וכיום היא נמצאת בשלבי הבדיקות הסופיות.
